以及針對入門級服務(wù)器的平臺SP8 。

N2是準備臺積電首個依賴于全環(huán)繞柵極晶體管（Gate All Around
 ，GAA）的新的需求工藝技術(shù)
，分別面向前者高端解決方案的散熱設(shè)計SP7，同時晶體管密度是滿足N3的1.15倍