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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間:2025-09-04 05:44:20 來源:
獨善一身網(wǎng)
作者:百科
高端光刻設(shè)備的中國制造制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ,關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū) ,芯片西方光刻工藝是技術(shù)鍵瓶頸
將芯片設(shè)計圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù) ,中國在這一領(lǐng)域的存年差距成關(guān)自主能力仍有較大差距。因此受到出口管制的光刻影響。高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的設(shè)備線路刻畫