臺(tái)積電最新的工藝國(guó)產(chǎn)2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ，臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下半導(dǎo)體供應(yīng)商 ，涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角 ，設(shè)備除了光刻機(jī)前景尚無明確消息
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在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域，注國(guó)要么使用當(dāng)?shù)氐膬?nèi)工供應(yīng)商，刻蝕機(jī) 、工藝國(guó)產(chǎn)但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割