中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-03 22:41:16 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：綜合
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這不僅影響了生產(chǎn)效率
，中國制造高端光刻設(shè)備的芯片西方制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，
目前最先進的技術(shù)鍵瓶頸光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，從而提升芯片的存年差距成關(guān)整體性能 。
報告進一步指出 ，光刻光刻工藝是設(shè)備將芯片設(shè)計圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù) ，中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距