2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
2025-09-01 04:05:30
工藝國(guó)產(chǎn)
在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域,內(nèi)工臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體供應(yīng)商,在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本,淘汰臺(tái)積頭下美國(guó)的設(shè)備芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展