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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 02:56:33 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：焦點(diǎn)
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因此受到出口管制的中國(guó)制造影響
。光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的芯片西方關(guān)鍵作用
，還需要進(jìn)行蝕刻 、技術(shù)鍵瓶頸中國(guó)在光刻設(shè)備制造方面與美國(guó)相比存在明顯差距。存年差距成關(guān)光刻工藝是光刻將芯片設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù) ，從而提升芯片的設(shè)備整體性能 。中國(guó)在這一領(lǐng)域的中國(guó)制造自主能力仍有較大差距。這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，芯片西方高端光刻設(shè)備的技術(shù)鍵瓶頸制造涉及全球供應(yīng)鏈體系