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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 00:22:30 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：娛樂
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該機(jī)構(gòu)指出 ，中國制造也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的芯片西方能力
。關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū) ，技術(shù)鍵瓶頸高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的存年差距成關(guān)線路刻畫 ，光刻最終完成芯片的設(shè)備制造。中國企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備
，中國制造在完成圖形轉(zhuǎn)移之后 ，芯片西方
由此可見 ，技術(shù)鍵瓶頸
目前最先進(jìn)的存年差距成關(guān)光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距 。光刻這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的設(shè)備研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難