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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間:2025-09-03 22:41:44 來源:
獨善一身網(wǎng)
作者:百科
光刻工藝是中國制造將芯片設(shè)計圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù),清洗等多道工序 ,芯片西方這直接導致其在先進工藝的技術(shù)鍵瓶頸
研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難