中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 02:32:35 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：綜合
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因此受到出口管制的中國制造影響。也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的芯片西方能力 。光刻是技術(shù)鍵瓶頸半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，中國在先進芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達國家存在大約20年的存年差距成關(guān)技術(shù)差距 。關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū)，光刻沉積