但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割  ,工藝國(guó)產(chǎn)

淘汰臺(tái)積頭下

2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣

淘汰臺(tái)積頭下美國(guó)的設(shè)備芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的電兩半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段 。臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的注國(guó)半導(dǎo)體供應(yīng)商 ,涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角,內(nèi)工

不過臺(tái)積電另一方面也在兩面下注  ,工藝國(guó)產(chǎn)國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展,淘汰臺(tái)積頭下在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本