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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-03 23:06:37 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：綜合
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中國在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國家存在大約20年的中國制造技術(shù)差距 。芯片西方
報(bào)告進(jìn)一步指出 ，技術(shù)鍵瓶頸高端光刻設(shè)備的存年差距成關(guān)制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的光刻能力。
目前最先進(jìn)的設(shè)備光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造