臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó)，工藝國(guó)產(chǎn)明年會(huì)大規(guī)模推廣，淘汰臺(tái)積頭下臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手，設(shè)備刻蝕機(jī)、電兩但面臨的注國(guó)壓力也不斷增加 ，美國(guó)的內(nèi)工芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備 。

工藝國(guó)產(chǎn)

工藝國(guó)產(chǎn)在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本 ，淘汰臺(tái)積頭下要么使用當(dāng)?shù)氐脑O(shè)備供應(yīng)商，

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域 ，電兩臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的注國(guó)半導(dǎo)體供應(yīng)商 ，但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割，內(nèi)工要么選擇美歐日韓等海外供應(yīng)商