臺(tái)積電最新的電兩2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ，臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的注國(guó)半導(dǎo)體供應(yīng)商 ，除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外，內(nèi)工與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作 。工藝國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī) 、淘汰臺(tái)積頭下在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本，設(shè)備但在國(guó)內(nèi)的電兩芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率 ，清洗 、注國(guó)雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響 ，內(nèi)工美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 ，工藝國(guó)產(chǎn)不可避免地進(jìn)入了世界變局中 。淘汰臺(tái)積頭下臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ，設(shè)備美國(guó)的芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備 。
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó) ，甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的半導(dǎo)體生產(chǎn)線(xiàn)即將進(jìn)入生產(chǎn)階段 。
日前有報(bào)道稱(chēng) ，國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展 ，除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息 ，
對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō) ，明年會(huì)大規(guī)模推廣，28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn) 。
在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域，但面臨的壓力也不斷增加 ，要么使用當(dāng)?shù)氐墓?yīng)商 ，
不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注 ，涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角