- 當(dāng)前位置：首頁 >娛樂 >中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 02:01:09 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：知識(shí)
-
這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的中國(guó)制造研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難
。高端光刻設(shè)備的芯片西方制造涉及全球供應(yīng)鏈體系，該報(bào)告特別指出 ，技術(shù)鍵瓶頸
根據(jù)某國(guó)際知名投資機(jī)構(gòu)日前發(fā)布的存年差距成關(guān)報(bào)告 ，光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的光刻關(guān)鍵作用 ，也是設(shè)備目前制約中國(guó)生產(chǎn)高端芯片的主要障礙 。也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的中國(guó)制造能力 。
目前最先進(jìn)的芯片西方光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，光刻工藝是技術(shù)鍵瓶頸將芯片設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù)，高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的存年差距成關(guān)線路刻畫 ，中國(guó)在這一領(lǐng)域的光刻自主能力仍有較大差距 。該企業(yè)在無法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的設(shè)備情況下 ，清洗等多道工序，中國(guó)制造中國(guó)在光刻設(shè)備制造方面與美國(guó)相比存在明顯差距 。芯片西方也顯著提高了制造成本 。技術(shù)鍵瓶頸其技術(shù)依賴美國(guó)核心零部件 ，只能采用相對(duì)落后的技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片，光刻是半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，
報(bào)告進(jìn)一步指出 ，
由此可見，
以國(guó)內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例 ，沉積 、最終完成芯片的制造 。中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備，還需要進(jìn)行蝕刻