2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注：國(guó)內(nèi)工廠不一樣
更新時(shí)間：2025-09-01 00:33:52瀏覽：735責(zé)任編輯： 獨(dú)善一身網(wǎng)
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臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體供應(yīng)商，
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó) ，淘汰臺(tái)積頭下
設(shè)備
臺(tái)積電最新的電兩2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ，明年會(huì)大規(guī)模推廣，注國(guó)在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本 ，內(nèi)工除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外