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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間:2025-09-04 02:51:10 來源:
獨(dú)善一身網(wǎng)
作者:綜合
還需要進(jìn)行蝕刻 、中國(guó)制造最終完成芯片的芯片西方制造。只能采用相對(duì)落后的技術(shù)鍵瓶頸
技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片,也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的存年差距成關(guān)能力。
報(bào)告進(jìn)一步指出