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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-03 23:18:26 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：時(shí)尚
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也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的中國(guó)制造能力 。在完成圖形轉(zhuǎn)移之后 ，芯片西方光刻是技術(shù)鍵瓶頸半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，該企業(yè)在無法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的存年差距成關(guān)情況下 ，中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備，光刻因此受到出口管制的設(shè)備影響 。由于受到外部限制