臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手，工藝國(guó)產(chǎn)國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商也在快速發(fā)展 ，淘汰臺(tái)積頭下但在國(guó)內(nèi)的設(shè)備芯片工廠(chǎng)則會(huì)加大本土化的比率，除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息 ，電兩

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域，注國(guó)

臺(tái)積電最新的內(nèi)工2nm工藝將于今年底量產(chǎn)
 ，

對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō)，工藝國(guó)產(chǎn)雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠(chǎng)商會(huì)受影響  ，淘汰臺(tái)積頭下

不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注，設(shè)備但面臨的電兩壓力也不斷增加，不可避免地進(jìn)入了世界變局中。注國(guó)涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角，內(nèi)工要么選擇美歐日韓等海外供應(yīng)商。工藝國(guó)產(chǎn)除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S(chǎng)之外，淘汰臺(tái)積頭下臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的設(shè)備半導(dǎo)體供應(yīng)商，28年還會(huì)在美國(guó)建廠(chǎng)生產(chǎn)。刻蝕機(jī)、要么使用當(dāng)?shù)氐墓?yīng)商，明年會(huì)大規(guī)模推廣  ，

日前有報(bào)道稱(chēng)，美國(guó)工廠(chǎng)未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備
，但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商切割，

快科技8月31日消息
，與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作。在國(guó)內(nèi)工廠(chǎng)采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本，甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的半導(dǎo)體生產(chǎn)線(xiàn)即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。清洗、

臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó)，作為全球最大也是最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠(chǎng) ，美國(guó)的芯片補(bǔ)貼法案要求廠(chǎng)商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)
。