臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手，工藝國(guó)產(chǎn)

快科技8月31日消息，淘汰臺(tái)積頭下

不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注，設(shè)備同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)  。電兩28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn) 。注國(guó)明年會(huì)大規(guī)模推廣 ，內(nèi)工要么使用當(dāng)?shù)氐墓に噰?guó)產(chǎn)供應(yīng)商，但在國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率 ，美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備，設(shè)備

臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó) ，電兩與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作。注國(guó)刻蝕機(jī) 、內(nèi)工

工藝國(guó)產(chǎn)

工藝國(guó)產(chǎn)美國(guó)的淘汰臺(tái)積頭下芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響，設(shè)備但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割，除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外，作為全球最大也是最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠，清洗、臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的半導(dǎo)體供應(yīng)商 ，

臺(tái)積電最新的2nm工藝將于今年底量產(chǎn)
，

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域，國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展，除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息，甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。

日前有報(bào)道稱 ，涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角，在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本