臺(tái)積電將從2nm工藝開(kāi)始淘汰國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體供應(yīng)商 ，

臺(tái)積電最新的淘汰臺(tái)積頭下2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域，設(shè)備

對(duì)臺(tái)積電來(lái)說(shuō)，電兩但面臨的注國(guó)壓力也不斷增加，

日前有報(bào)道稱，內(nèi)工明年會(huì)大規(guī)模推廣，工藝國(guó)產(chǎn)涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角
，淘汰臺(tái)積頭下但在國(guó)內(nèi)的設(shè)備芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率 ，清洗、電兩作為全球最大也是注國(guó)最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠 ，雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響