刻蝕機(jī)、工藝國產(chǎn)

臺(tái)積電最新的淘汰臺(tái)積頭下2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國內(nèi)廠商切割，設(shè)備除了光刻機(jī)前景尚無明確消息