但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割，工藝國(guó)產(chǎn)臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下半導(dǎo)體供應(yīng)商，臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手
，設(shè)備清洗、電兩刻蝕機(jī)
、注國(guó)

臺(tái)積電最新的內(nèi)工2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，美國(guó)工廠未來會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備，工藝國(guó)產(chǎn)在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本