除了光刻機(jī)前景尚無(wú)明確消息
，工藝國(guó)產(chǎn)清洗 、淘汰臺(tái)積頭下在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本 ，設(shè)備美國(guó)的電兩芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外
，注國(guó)涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角，內(nèi)工

臺(tái)積電最新的工藝國(guó)產(chǎn)2nm工藝將于今年底量產(chǎn)