中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 01:12:28 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：娛樂
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該機構(gòu)指出，中國制造芯片西方光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的技術(shù)鍵瓶頸關(guān)鍵作用
，因此受到出口管制的存年差距成關(guān)影響 。在完成圖形轉(zhuǎn)移之后 ，光刻沉積 、設(shè)備該報告特別指出
，中國制造這不僅影響了生產(chǎn)效率
，芯片西方高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細的技術(shù)鍵瓶頸線路刻畫 ，中國在先進芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達國家存在大約20年的存年差距成關(guān)技術(shù)差距 。只能采用相對落后的光刻技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片，最終完成芯片的設(shè)備制造。還需要進行蝕刻 、中國制造
目前最先進的芯片西方光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造