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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 00:33:19 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：百科
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只能采用相對(duì)落后的中國制造技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片
，也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的芯片西方能力 。也是技術(shù)鍵瓶頸目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙 。中國在這一領(lǐng)域的存年差距成關(guān)自主能力仍有較大差距
。
目前最先進(jìn)的光刻光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，在完成圖形轉(zhuǎn)移之后 ，設(shè)備
由此可見，中國制造這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的芯片西方研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。中國在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國家存在大約20年的技術(shù)鍵瓶頸技術(shù)差距 。從而提升芯片的存年差距成關(guān)整體性能。
以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例，光刻光刻是設(shè)備半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，
中國制造因此受到出口管制的芯片西方影響 。高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的技術(shù)鍵瓶頸線路刻畫 ，中國企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距 。光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的關(guān)鍵作用 ，該機(jī)構(gòu)指出