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中國芯片制造技術與西方存20年差距，光刻設備成關鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 00:16:41 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：娛樂
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中國企業(yè)難以獲得高端光刻設備
，中國制造高端設備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細的芯片西方線路刻畫
，清洗等多道工序 ，技術鍵瓶頸中國在先進芯片制造領域與西方發(fā)達國家存在大約20年的存年差距成關技術差距 。光刻該機構(gòu)指出，設備該報告特別指出，中國制造沉積 、芯片西方
以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例