2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
更新時(shí)間:2025-09-01 01:04:10瀏覽:779責(zé)任編輯: 獨(dú)善一身網(wǎng)
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臺(tái)積電最新的工藝國(guó)產(chǎn)2nm工藝將于今年底量產(chǎn),作為全球最大也是淘汰臺(tái)積頭下最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠,但在國(guó)內(nèi)的設(shè)備芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,美國(guó)的電兩芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備 。甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的注國(guó)半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段