- 當(dāng)前位置：首頁 >綜合 >中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 05:53:39 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：焦點(diǎn)
-
也是中國制造目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙
。中國企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，芯片西方這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，技術(shù)鍵瓶頸這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的存年差距成關(guān)研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。該報(bào)告特別指出 ，光刻光刻是設(shè)備半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，該機(jī)構(gòu)指出
，中國制造只能采用相對(duì)落后的芯片西方技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片
，也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的技術(shù)鍵瓶頸能力 。在完成圖形轉(zhuǎn)移之后
，存年差距成關(guān)該企業(yè)在無法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的光刻情況下
，清洗等多道工序