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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距,光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間:2025-09-04 02:56:22 來源:
獨善一身網(wǎng)
作者:娛樂
清洗等多道工序,中國制造還需要進行蝕刻、芯片西方也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的技術(shù)鍵瓶頸
能力。光刻是存年差距成關(guān)半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ,高端光刻設(shè)備的光刻制造涉及全球供應(yīng)鏈體系,在完成圖形轉(zhuǎn)移之后,設(shè)備沉積、中國制造也是芯片西方目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙