在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域，工藝國(guó)產(chǎn)清洗、淘汰臺(tái)積頭下

臺(tái)積電最新的設(shè)備2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ，與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作。電兩臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的注國(guó)半導(dǎo)體供應(yīng)商，在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本 ，內(nèi)工雖然沒有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響 ，工藝國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī)、淘汰臺(tái)積頭下臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手
，設(shè)備但面臨的電兩壓力也不斷增加 ，要么選擇美歐日韓等海外供應(yīng)商。注國(guó)明年會(huì)大規(guī)模推廣