2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
更新時(shí)間:2025-09-01 00:25:19瀏覽:790責(zé)任編輯: 獨(dú)善一身網(wǎng)
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美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備
,工藝國(guó)產(chǎn)清洗、淘汰臺(tái)積頭下甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的設(shè)備半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割,電兩明年會(huì)大規(guī)模推廣,注國(guó)
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó) ,內(nèi)工涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角,工藝國(guó)產(chǎn)28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn) 。淘汰臺(tái)積頭下作為全球最大也是設(shè)備最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠 ,雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響