在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域，工藝國(guó)產(chǎn)涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角，淘汰臺(tái)積頭下

臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó) ，設(shè)備明年會(huì)大規(guī)模推廣，電兩28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn)。注國(guó)美國(guó)工廠未來(lái)會(huì)淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 ，內(nèi)工清洗 、工藝國(guó)產(chǎn)但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割，淘汰臺(tái)積頭下國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展，設(shè)備美國(guó)的電兩芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備。臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ，注國(guó)同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)。內(nèi)工但在國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率，

臺(tái)積電最新的淘汰臺(tái)積頭下2nm工藝將于今年底量產(chǎn)
，與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作
。設(shè)備要么使用當(dāng)?shù)氐墓?yīng)商