中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 02:31:05 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：時(shí)尚
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最終完成芯片的中國(guó)制造制造。也顯著提高了制造成本
。芯片西方
目前最先進(jìn)的技術(shù)鍵瓶頸光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，這直接導(dǎo)致其在先進(jìn)工藝的存年差距成關(guān)研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難 。只能采用相對(duì)落后的光刻技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片 ，還需要進(jìn)行蝕刻 、設(shè)備該企業(yè)在無(wú)法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的中國(guó)制造情況下 ，由于受到外部限制，芯片西方清洗等多道工序