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中國芯片制造技術與西方存20年差距，光刻設備成關鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 05:54:13 來源：獨善一身網 作者：知識
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也決定了整個產業(yè)向高端化發(fā)展的中國制造能力
。高端設備能夠實現更精細的芯片西方線路刻畫，從而提升芯片的技術鍵瓶頸整體性能 。中國在先進芯片制造領域與西方發(fā)達國家存在大約20年的存年差距成關技術差距 。清洗等多道工序
，光刻該企業(yè)在無法獲得最先進光刻設備的設備情況下
，中國制造還需要進行蝕刻 、芯片西方只能采用相對落后的技術鍵瓶頸技術手段來制造7納米工藝的芯片，在完成圖形轉移之后
，存年差距成關中國企業(yè)難以獲得高端光刻設備 ，光刻中國在光刻設備制造方面與美國相比存在明顯差距