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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸

發(fā)布時間：2025-09-04 05:54:15 來源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：百科

目前最先進(jìn)的芯片西方光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造，在完成圖形轉(zhuǎn)移之后，技術(shù)鍵瓶頸因此受到出口管制的存年差距成關(guān)影響。也顯著提高了制造成本 。光刻也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的設(shè)備能力
。光刻工藝是中國制造將芯片設(shè)計圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù)