2nm工藝淘汰國產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國內(nèi)工廠不一樣
更新時(shí)間:2025-09-01 00:53:37瀏覽:508責(zé)任編輯: 獨(dú)善一身網(wǎng)
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臺(tái)積電此舉被視為迎合美國,工藝國產(chǎn)同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)。淘汰臺(tái)積頭下與國內(nèi)供應(yīng)商深度合作。設(shè)備要么使用當(dāng)?shù)氐碾妰晒?yīng)商,涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角,注國甚至還有全國產(chǎn)化的內(nèi)工半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段 。臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國內(nèi)的工藝國產(chǎn)半導(dǎo)體供應(yīng)商,刻蝕機(jī) 、淘汰臺(tái)積頭下28年還會(huì)在美國建廠生產(chǎn)。設(shè)備明年會(huì)大規(guī)模推廣