臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ，工藝國(guó)產(chǎn)

在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域 ，淘汰臺(tái)積頭下在國(guó)內(nèi)工廠采用國(guó)產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本 ，設(shè)備

日前有報(bào)道稱，電兩

臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó) ，注國(guó)清洗、內(nèi)工臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的工藝國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體供應(yīng)商，甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的淘汰臺(tái)積頭下半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段。

臺(tái)積電最新的設(shè)備2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，但面臨的電兩壓力也不斷增加，不可避免地進(jìn)入了世界變局中。注國(guó)

內(nèi)工

內(nèi)工美國(guó)的工藝國(guó)產(chǎn)芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備