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中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸

發(fā)布時(shí)間：2025-09-04 05:54:14 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：知識(shí)

目前最先進(jìn)的光刻光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造
，光刻工藝是設(shè)備將芯片設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù)
，中國(guó)在光刻設(shè)備制造方面與美國(guó)相比存在明顯差距 。中國(guó)制造

以國(guó)內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例