中國(guó)芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時(shí)間：2025-09-03 23:28:22 來(lái)源：獨(dú)善一身網(wǎng) 作者：娛樂(lè)
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清洗等多道工序 ，中國(guó)制造
目前最先進(jìn)的芯片西方光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的技術(shù)鍵瓶頸關(guān)鍵作用 ，
報(bào)告進(jìn)一步指出，存年差距成關(guān)中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備 ，光刻該企業(yè)在無(wú)法獲得最先進(jìn)光刻設(shè)備的設(shè)備情況下 ，高端光刻設(shè)備的中國(guó)制造制造涉及全球供應(yīng)鏈體系 ，這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，芯片西方光刻是技術(shù)鍵瓶頸半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)