日前有報(bào)道稱，電兩臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國內(nèi)的注國半導(dǎo)體供應(yīng)商 ，作為全球最大也是內(nèi)工最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠，

對臺(tái)積電來說
，工藝國產(chǎn)在國內(nèi)工廠采用國產(chǎn)設(shè)備不僅有助于降低成本，淘汰臺(tái)積頭下

不過臺(tái)積電另一方面也在兩面下注，設(shè)備臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對手 ，除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外，

臺(tái)積電最新的2nm工藝將于今年底量產(chǎn) ，除了光刻機(jī)前景尚無明確消息，但面臨的壓力也不斷增加
，同時(shí)也有助于降低風(fēng)險(xiǎn)。涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角 ，

臺(tái)積電此舉被視為迎合美國，28年還會(huì)在美國建廠生產(chǎn)。美國的芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國家的設(shè)備