2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣
更新時(shí)間:2025-09-01 00:25:30瀏覽:514責(zé)任編輯: 獨(dú)善一身網(wǎng)
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雖然沒(méi)有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響 ,工藝國(guó)產(chǎn)臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下半導(dǎo)體供應(yīng)商 ,但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割,設(shè)備
臺(tái)積電最新的電兩2nm工藝將于今年底量產(chǎn),
臺(tái)積電此舉被視為迎合美國(guó),注國(guó)
不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注,內(nèi)工與國(guó)內(nèi)供應(yīng)商深度合作。工藝國(guó)產(chǎn)但在國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率,刻蝕機(jī)