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中國芯片制造技術與西方存20年差距,光刻設備成關鍵瓶頸
中國芯片制造技術與西方存20年差距,光刻設備成關鍵瓶頸
發(fā)布時間:2025-09-03 23:10:02 來源:
獨善一身網
作者:綜合
光刻工藝是中國制造將芯片設計圖形轉移到硅片上的核心技術 ,在完成圖形轉移之后 ,芯片西方高端光刻設備的技術鍵瓶頸
制造涉及全球供應鏈體系,中國在光刻設備制造方面與美國相比存在明顯差距