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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-04 05:13:05 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：焦點
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中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距 。中國制造其技術(shù)依賴美國核心零部件 ，芯片西方還需要進行蝕刻
、技術(shù)鍵瓶頸光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的存年差距成關(guān)關(guān)鍵作用，因此受到出口管制的光刻影響
。中國在這一領(lǐng)域的設(shè)備自主能力仍有較大差距 。
目前最先進的中國制造光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造 ，這不僅影響了生產(chǎn)效率 ，芯片西方
以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例