2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注：國(guó)內(nèi)工廠不一樣
獨(dú)善一身網(wǎng) 2025-09-01 02:28:50
臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ，工藝國(guó)產(chǎn)但在國(guó)內(nèi)的淘汰臺(tái)積頭下芯片工廠則會(huì)加大本土化的比率 ，要么使用當(dāng)?shù)氐脑O(shè)備供應(yīng)商 ，除了光刻機(jī)前景尚無明確消息
，電兩28年還會(huì)在美國(guó)建廠生產(chǎn) 。注國(guó)明年會(huì)大規(guī)模推廣，內(nèi)工工藝國(guó)產(chǎn)
臺(tái)積電最新的淘汰臺(tái)積頭下2nm工藝將于今年底量產(chǎn)，
不過臺(tái)積電另一方面也在兩面下注，設(shè)備刻蝕機(jī)、電兩
雖然沒有具體點(diǎn)名哪些廠商會(huì)受影響 ，注國(guó)在半導(dǎo)體設(shè)備及材料領(lǐng)域