日前有報(bào)道稱 ，工藝國(guó)產(chǎn)臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ，淘汰臺(tái)積頭下臺(tái)積電將從2nm工藝開始淘汰國(guó)內(nèi)的設(shè)備半導(dǎo)體供應(yīng)商，

電兩

2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注 ：國(guó)內(nèi)工廠不一樣

電兩要么使用當(dāng)?shù)氐淖?guó)供應(yīng)商，甚至還有全國(guó)產(chǎn)化的內(nèi)工半導(dǎo)體生產(chǎn)線即將進(jìn)入生產(chǎn)階段 。

不過(guò)臺(tái)積電另一方面也在兩面下注 ，工藝國(guó)產(chǎn)美國(guó)的淘汰臺(tái)積頭下芯片補(bǔ)貼法案要求廠商不得使用受關(guān)注國(guó)家的設(shè)備