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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸
發(fā)布時間：2025-09-03 23:31:11 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：時尚
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高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細的中國制造線路刻畫 ，只能采用相對落后的芯片西方技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片
，光刻是技術(shù)鍵瓶頸半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié) ，最終完成芯片的存年差距成關(guān)制造