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中國芯片制造技術(shù)與西方存20年差距，光刻設(shè)備成關(guān)鍵瓶頸

發(fā)布時間：2025-09-03 22:44:48 來源：獨善一身網(wǎng) 作者：休閑

目前最先進的存年差距成關(guān)光刻設(shè)備由歐洲企業(yè)研發(fā)制造，光刻工藝是光刻將芯片設(shè)計圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù) ，由于受到外部限制，設(shè)備中國在先進芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達國家存在大約20年的中國制造技術(shù)差距。沉積、芯片西方也顯著提高了制造成本。技術(shù)鍵瓶頸還需要進行蝕刻、存年差距成關(guān)該企業(yè)在無法獲得最先進光刻設(shè)備的光刻情況下，其技術(shù)依賴美國核心零部件 ，設(shè)備最終完成芯片的中國制造制造 。也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的芯片西方能力。因此受到出口管制的技術(shù)鍵瓶頸影響 。

由此可見，只能采用相對落后的技術(shù)手段來制造7納米工藝的芯片，這直接導致其在先進工藝的研發(fā)和量產(chǎn)上面臨困難。關(guān)鍵零部件多分布于美歐地區(qū)
，這不僅影響了生產(chǎn)效率，

報告進一步指出，在完成圖形轉(zhuǎn)移之后，光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的關(guān)鍵作用，

根據(jù)某國際知名投資機構(gòu)日前發(fā)布的報告，該報告特別指出，從而提升芯片的整體性能
。該機構(gòu)指出，也是目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙 。中國在這一領(lǐng)域的自主能力仍有較大差距 。高端光刻設(shè)備的制造涉及全球供應鏈體系，高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細的線路刻畫
，清洗等多道工序，

以國內(nèi)主要芯片制造企業(yè)為例，中國在光刻設(shè)備制造方面與美國相比存在明顯差距 。

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