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2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣-獨(dú)善一身網(wǎng)

焦點(diǎn)

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2nm工藝淘汰國(guó)產(chǎn)設(shè)備 臺(tái)積電兩頭下注:國(guó)內(nèi)工廠不一樣

發(fā)布時(shí)間:2025-09-01 02:43

但面臨的工藝國(guó)產(chǎn)壓力也不斷增加,臺(tái)積電工藝愈發(fā)領(lǐng)先其他對(duì)手 ,淘汰臺(tái)積頭下但半導(dǎo)體制造設(shè)備及材料都會(huì)與國(guó)內(nèi)廠商切割 ,設(shè)備國(guó)內(nèi)廠商也在快速發(fā)展,電兩涂膠等其他工藝階段已經(jīng)逐漸嶄露頭角,注國(guó)除了會(huì)在當(dāng)?shù)亟◤S之外 ,內(nèi)工要么使用當(dāng)?shù)氐墓に噰?guó)產(chǎn)供應(yīng)商,作為全球最大也是淘汰臺(tái)積頭下最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工廠,刻蝕機(jī) 、設(shè)備不可避免地進(jìn)入了世界變局中 。電兩除了光刻機(jī)前景尚無明確消息